芯上微装近日宣布,其自主研发的350nm步进投影光刻机AST6200顺利通过国内化合物半导体领域头部客户的全流程工艺验证,并获得批量重复采购订单。从首台设备发运到获得批量订单仅用时9个月,该设备从关键零部件到软件控制系统均实现100%自主可控,标志着国产光刻机在化合物半导体专用设备领域迈出重要一步。

AST6200定位为化合物半导体专用步进光刻机,稳定实现350nm分辨率,正面套刻精度80nm、背面套刻精度500nm。设备兼容多种衬底材料,包括Si、SiC、GaN、GaAs、InP、蓝宝石等,支持2至8英寸基片及透明、半透明、大台阶晶圆的调焦调平。软件控制系统实现全栈自主可控,主要服务于功率器件、射频前端、光电子芯片、Micro LED等产线。

芯上微装是从上海微电子装备集团拆分设立的独立公司,专注于“超越摩尔”赛道的芯片制造、先进封装、三代半导体和新型显示等核心领域。该公司在先进封装步进光刻机市场表现突出股票配资官网开户,全球市占率约35%,国内市场占有率约90%。
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